技術(shù) | 探測源 | 探測物理量 | 用途 |
電參數(shù)測試分析 | 電信號 | 確定失效模式和失效管腳定位 | |
掃描聲學(xué)顯微分析(SAM) | 超聲波 | 超聲波 | 測量超聲波傳播,分析材料彈性特征,晶體缺陷和多層結(jié)構(gòu)分析,結(jié)構(gòu)截面的非破壞性分析 |
X-射線*** | X射線 | X射線強(qiáng)度 | 檢測電子元器件及多層PCB板的內(nèi)部結(jié)構(gòu) |
X射線光電子能譜(XPS) | 特征X射線 | 光電子 | 通過測量光電子能量確定殼層能級,利用化學(xué)位移測量化學(xué)鍵和化合物,元素確定,化學(xué)位移 |
顯微紅外吸收光譜(FTIR) | 紅外線 | 紅外吸收光譜 | 識別分子官能團(tuán),有機(jī)物結(jié)構(gòu)分析 |
二次離子質(zhì)譜(SIMS) | 離子 | 二次離子 | 元素確定,表面元素分布 |
技術(shù) | 探測源 | 探測物理量 | 用途 |
光學(xué)顯微鏡 | 可見光 | 反射光 | 表面形貌,尺寸測量,缺陷觀察 |
掃描電子顯微分析(SEM) | 電子 | 二次電子,背散射電子 | 表面形貌,晶體缺陷,電位分布, |
X射線能譜分析(EDS) | 電子 | 特征X射線 | 元素分析及元素分布 |
俄歇電子能譜(AES) | 電子 | 俄歇電子 | 表面元素確定和元素深度分布 |
聚焦離子束(FIB) | 離子 | 二次離子 | 截面加工和觀察 |
透射電子顯微技術(shù)(TEM) | 電子 | 電子 | 截面形貌觀察,晶格結(jié)構(gòu)分析 |
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